インテルは日本産業技術総合研究所（AIST）と日本にチップ研究開発拠点を設立し、3～5年以内に極紫外線リソグラフィ（EUV）装置を備えた新施設を建設することが3日、明らかになった。設備メーカーと材料会社は、この施設を有料で使用してプロトタイプ設計とテストを行う。極紫外リソグラフィ装置を共同で使用できる日本初の業界メンバーの中心になるという。