オランダのフォトリソグラフィ大手アスマは、最新開発のスーパーEUV（極紫外線）フォトリソグラフィ機が0.2 nmプロセスを量産する能力を備えていると発表した。このマイルストーン的な進展は、半導体産業を再び新たな高度にリードするに違いない。