아스맥, SK하이닉스와 EUV 포토레지스트 수소회수기술 개발 협력 예정
茵665
发表于 2023-12-13 10:35:47
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[아스맥과 SK하이닉스, EUV 포토레지스트 수소회수기술 개발 협력예정] 산업통상자원부는 12월 13일 네덜란드에 본사를 둔 아스맥(ASML)이 한국 칩 제조업체와 업무협력을 확대할 계획이라고 밝혔다.ASML은 삼성전자와 공동으로 1조원(약 7억400만 유로)을 투자해 한국에 칩연구센터를 지을 예정인 것 외에도 극자외선 포토레지스트에 사용되는 수소를 회수하는 기술을 개발해 극자외선 포토레지스트 에너지 소비를 낮추기 위해 국내 2위 칩 제조업체인 SK하이닉스와 양해각서를 체결했다.
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