フォトリソグラフィー大手アスマ(ASML)の公式サイトが9月6日に発表した声明によると、オランダ政府は同日、浸漬型DUV半導体装置の輸出に関する最新のライセンス要求を発表した。この要求は2024年9月7日に発効した。
更新されたライセンス要件に基づいて、米国輸出管理条例734.4.(a).(3)の規定により、アスマは米国政府ではなくオランダ政府にTWINSCAN NXT:1970 iと1980 i DUV浸漬型フォトリソグラフィシステムの輸出許可証を申請する必要がある。TWINSCAN NXT:2000 i及びそれに続くDUV浸漬式シ ...
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